3-ಅಮೈನೊ -5-ಮೆರ್ಕಾಪ್ಟೋ-1,2 ಅನ್ನು ಉಸಿರಾಡಿದರೆ, 4-ಟ್ರೈಜೋಲ್, ದಯವಿಟ್ಟು ರೋಗಿಯನ್ನು ತಾಜಾ ಗಾಳಿಗೆ ಸರಿಸಿ; ಚರ್ಮದ ಸಂಪರ್ಕದ ಸಂದರ್ಭದಲ್ಲಿ, ಕಲುಷಿತ ಬಟ್ಟೆಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಿ ಮತ್ತು ಚರ್ಮವನ್ನು ಸಾಬೂನು ನೀರು ಮತ್ತು ನೀರಿನಿಂದ ಚೆನ್ನಾಗಿ ತೊಳೆಯಿರಿ. ನಿಮಗೆ ಅನಾನುಕೂಲವಾಗಿದ್ದರೆ, ವೈದ್ಯಕೀಯ ಸಲಹೆ ಪಡೆಯಿರಿ; ನಿಮಗೆ ಕಣ್ಣಿನ ಸ್ಪಷ್ಟ ಸಂಪರ್ಕವಿದ್ದರೆ, ಕಣ್ಣುರೆಪ್ಪೆಗಳನ್ನು ಬೇರ್ಪಡಿಸಿ, ಹರಿಯುವ ನೀರು ಅಥವಾ ಸಾಮಾನ್ಯ ಲವಣಯುಕ್ತದಿಂದ ತೊಳೆಯಿರಿ ಮತ್ತು ತಕ್ಷಣ ವೈದ್ಯಕೀಯ ಸಲಹೆ ಪಡೆಯಿರಿ; ಸೇವಿಸಿದರೆ, ತಕ್ಷಣವೇ ಕಸಿದುಕೊಳ್ಳಿ, ವಾಂತಿಗೆ ಪ್ರೇರೇಪಿಸಬೇಡಿ ಮತ್ತು ತಕ್ಷಣವೇ ವೈದ್ಯಕೀಯ ಸಲಹೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಿರಿ.

ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಇದನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ

ಸಾಮಾನ್ಯ ಎಲ್ಇಡಿ ಮತ್ತು ಅರೆವಾಹಕ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ಕೆಲವು ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ನ ಮುಖವಾಡವು ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಒಡ್ಡಿಕೊಂಡ ನಂತರ ಮಾದರಿಯನ್ನು ವರ್ಗಾಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಅಗತ್ಯವಾದ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಪಡೆದ ನಂತರ, ಮುಂದಿನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಮೊದಲು ಉಳಿದಿರುವ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಅನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ, ಯಾವುದೇ ತಲಾಧಾರವನ್ನು ನಾಶಪಡಿಸದೆ ಅನಗತ್ಯ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಅನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ತೆಗೆದುಹಾಕುವ ಅಗತ್ಯವಿದೆ. ಪ್ರಸ್ತುತ, ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಸ್ವಚ್ cleaning ಗೊಳಿಸುವ ದ್ರಾವಣವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಧ್ರುವೀಯ ಸಾವಯವ ದ್ರಾವಕ, ಬಲವಾದ ಕ್ಷಾರ ಮತ್ತು / ಅಥವಾ ನೀರಿನಿಂದ ಕೂಡಿದೆ. .

ಹೊಸ ರೀತಿಯ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಶುಚಿಗೊಳಿಸುವ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲಾಗಿದೆ, ಇದು ಜಲೀಯವಲ್ಲದ ಕಡಿಮೆ ಎಚ್ಚಣೆ ಡಿಟರ್ಜೆಂಟ್ ಆಗಿದೆ. ಇದು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ: ಆಲ್ಕೋಹಾಲ್ ಅಮೈನ್, 3-ಅಮೈನೊ -5-ಮೆರ್ಕಾಪ್ಟೋ-1,2,4-ಟ್ರಯಾಜೋಲ್ ಮತ್ತು ಕೊಸೊಲ್ವೆಂಟ್. ಎಲ್ಇಡಿ ಮತ್ತು ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ನಲ್ಲಿ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಅನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಈ ರೀತಿಯ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ದ್ರಾವಣವನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು. ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಲೋಹದ ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂನಂತಹ ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಇದು ಯಾವುದೇ ದಾಳಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವುದಿಲ್ಲ. ಇದಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಿ, ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಬಲವಾದ ನೀರಿನ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಅದರ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ವಿಂಡೋವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತದೆ. ಎಲ್ಇಡಿ ಮತ್ತು ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಚಿಪ್ ಕ್ಲೀನಿಂಗ್ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಇದು ಉತ್ತಮ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ನಿರೀಕ್ಷೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.